Lim Hock, Ong Chong Kim, Serguei Matitsine and Gan Yeow Beng, National University of Singapore, Singapore (Eds.)
Proceedings of Symposium F Electromagnetic Materials
2003, 272pp.
Softcover $ 70.00
ISBN 981-238-372-7
World Scientific
2003年12月7~12日在新加坡国际会议与展览中心举行了“第二届高级技术材料国际会议”(ICMAT)。该会议2001年首创，以后每两年举办一次，本次会议由国立新加坡大学和新加坡材料研究协会举办。会议的日程包括16个专题讨论会、8个全体会议演讲和两个由诺贝尔奖获得者主讲的公共讲座，会上还有展览、技术参观和社会节目。这次会议是致力于研究展现电磁效应材料的，试图从理论上理解它们的属性、特点、测量技术、设计与制造方法以及应用。会上提出具有负介电常数和导磁率的“元材料”，使得科学家重新研究电磁波传播的某些基本论点，并探索潜在的突破性应用。这次专题讨论会为由第一流专家介绍有关这个感兴趣的专题提供了讲坛，其中包括了V.G.Veselago教授。
全书共收集了55篇论文，分为如下几个部分：开幕式会议、电介质合成、毫微合成、磁性合成、元材料、周期性结构、应用以及HTS与薄膜。其中部分论文为：合成与不同类结构的微波性质；有关相位转换屏幕的介绍；一维随机系统的电动力学及相关的磁与光现象；自适应材料与外部支持系统；光纤合成材料的有效参数；合成材料的阻抗光谱；具有随机分布杂质合成材料的有效波数；工程金属电介质毫微合成材料的光学性质；单壁碳纳米管合成的微波表征与建模；现代磁性材料与磁性的研究及应用；无损耗高频Ni\|Zn铁素体的开发；软磁材料表征的新方法；具有负折射率材料的电动力学；具有负折射系数的元材料理论、数值与实验研究；电磁波功能材料的计算研究；具有电磁能带隙的周期性结构薄膜的制造；磁性聚合物；真空蒸发非结晶CdTe薄膜的光学性质；使用过滤阴极真空弧技术的氮化铁薄膜沉积等。
本书可供研究电磁材料及其应用的研究人员、研究生阅读参考。
胡海伦，博士生
(美国康涅狄格大学电气工程系)
Hu Hailun, Ph.D
(Department of Electrical Engineering, University of Connecticut)
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