摘 要：集成电路作为一种新兴的知识产权客体，对它的保护与传统版权法中对普通作品的保护迥异。欧美等国关于集成电路知识产权的立法对中国形成了较大影响。目前，集成电路的保护虽然已经形成了单行立法的格局，但就其保护范围的界定以及反向工程的合法性问题，仍然存在不同的观点甚至激烈的争论；故而，重新对集成电路的知识产权的保护状况进行梳理，对我国集成电路的知识产权保护具有重大的理论和实践意义。
关键词：集成电路；版权保护；反向工程
中图分类号：DF523 文献标识码：A
引言：已经拉开的大幕
1958年，世界上第一块集成电路上只包含了十几个简单的晶体管。1967年，出现了大规模集成电路，集成度迅速提高。1977年，超大规模集成电路问世，一个硅晶片中已经可以集成15万个以上的晶体管。集成电路的集成度从小规模到大规模，再到超大规模的迅速发展，集成电路的布图设计水平迅速提高。
集成电路的广泛应用，极大地推动了社会经济的发展，促进了信息时代的加速到来，并正在深刻改变着人类的生产生活。现在，集成电路的技术水平和产业规模已经成为衡量一个国家科技发展水平、综合国力强弱和产业结构高级化程度的公认标准之一，集成电路产业也成为关系到国家安全和国民经济发展的战略性产业之一。各发达国家和诸多新兴国家及地区纷纷投入巨额资金，不惜血本地加入这一竞争激烈的领域。
研制开发一种新的集成电路，需要在布图设计方面耗费大量的人力、物力和财力。然而，集成电路布图设计的可复制性决定了先进的布图设计容易被他人复制，侵权人可以轻而易举地以较小的代价进行仿制。这严重损害了布图设计研制开发者的利益，从而也影响了集成电路新产品的研制开发。从20世纪70年代起，集成电路设计的盗版问题迅速增长。据集成电路行业的巨头英特尔公司的统计，集成电路的盗版可以节省90%以上的开发成本和一年半左右的开发时间。盗版厂商以低廉的成本复制集成电路的布图设计，极大挫伤了前期投入昂贵的研发费用的正规开发商的积极性。盗版问题已经成为集成电路产业发展的一个严重障碍。为了维护集成电路研制开发者的智力劳动成果，保障集成电路研制生产的正常开展，世界各国以及相关的国际组织纷纷寻求从知识产权角度加强对集成电路的布图设计的保护。
一、保护模式：渐进与统一
世界各国对于集成电路布图设计的保护通常采用三种模式：专利法保护、版权法保护以及专门立法保护。但在实践中，通过专利制度或者版权制度保护集成电路布图设计都存在一定的不足，通过专门立法加以保护成为目前世界各国立法包括国际条约的普遍选择。
（一）专利法保护
现代法学
曹伟：集成电路知识产权保护评析
部分国家将集成电路的布图设计作为一种可专利的技术方案，通过授予其专利权的方法来进行保护。从理论上分析，集成电路的布图设计实质上是一种图形设计方案，如果根据该设计生产出的集成电路产品符合专利法所规定的条件，的确可以获得专利授权。对于被授予专利权的集成电路产品未经专利权人许可，他人不得制造、销售、使用和进口，否则必须承担侵权的法律责任。然而，大部分集成电路布图设计都属于对于已知电路的重新设计，在设计的时候必须遵守工程设计的基本原理、方法和规范，必须采用相当数量的通用性的常规设计；而这些知识已进入公有领域，所以，集成电路的布图设计往往缺乏专利授权必须的新颖性。此外，集成电路在专利法要求的创造性方面也显得力不从心。集成电路不论其规模有多大，其布图设计的中心思想都是实现电路集成的功能。为实现这一目的，布图设计将电路图中的多个元器件合理地分布在多个叠层中，并使其互连，形成三维配置。因而，同类集成电路产品的布图设计方案不会有太大的变化，研制开发不过是在提高集成度、节约材料、降低能耗方面下功夫，很少具备实质性的差异，因而也很难达到专利法对创造性的要求。何况，布图设计也只是产品的一种中间形态，没有独立的产品功能。换言之，布图设计不同于专利法中能够直接运用的技术方案。此外，集成电路技术更新换代相当快，技术的生命周期非常短，而专利申请与审批的时间却比较长，这使得集成电路技术实际上无法在专利法中及时获得保护。
鉴于通过专利制度保护集成电路的布图设计存在难以逾越的障碍，在对现行《专利法》进行较大修改之前，对集成电路布图设计的保护还需其他法律部门的共同努力。
（二）版权法保护
也有部分国家将集成电路的布图设计作为一种图形作品，将其纳入版权法中作品的范围，通过版权法给予保护。典型的例子是美国1984年制定的《半导体芯片保护法案》，该法案明确采用类似版权的保护方式对集成电路进行保护，并将这一理念延伸到美国版权法中，将其保护客体界定为“掩膜作品”，而不是简单地视为“掩膜”。该法案将“掩膜作品”定义为，一套已固着或已编码的相关图像，它们(A)具有或表示半导体芯片产品各层预定出现或不出现金属、绝缘或半导体材料形成的三维空间图形；并且(B)此套图像之间的关系是每个图像在半导体芯片中都有一种形式的平面图形。可见，在美国，集成电路作为一种单独的作品种类已经被纳入了广义版权法的保护范围［1］。
在传统版权法的理念中，版权法的保护对象是文学、艺术和科技作品，其中也包含工程设计、产品设计图纸等图形作品。集成电路布图设计图纸具备了独创性的要求，即受到版权法的保护，自然是题中应有之意；但是，单纯以版权法保护集成电路，在保护力度上很难提供充分有效的保护。
从布图设计的作用来看，它与享有版权的作品明显不同。作品的作用主要是供人欣赏，而布图设计及含布图设计的集成电路是一种电子产品，布图设计的作用不是供人欣赏，而是为了执行电子电路的功能。也就是说，一般作品不具有功能性，而布图设计则具有鲜明的功能性。如果不具备电子电路的功能，就不成其为布图设计，因此，在功能性上，布图设计与版权法中的图形作品存在本质上的不同。
即使将版权法上的作品扩大解释为包括布图设计在内，也不能有效地保护布图设计。作品保护的方式主要通过制止他人未经权利人许可的复制，而此种方式对布图设计并没有实际的意义。通常，针对集成电路布图设计的侵权并不是将他人的布图设计简单的复制下来，而是将他人的布图设计擅自应用到自己的集成电路中去，这个过程已远非版权法上的“复制”能够概括。所以，国外关于集成电路的立法以及相应的国际条约中都没有使用“copy”一词，而是使用了“reproduce”。虽然在中国的立法和相关的学术论文的语境中，“复制”这一词语仍然大量使用，但此“复制”已经不再是版权法意义上的“复制”了。况且，版权法只保护作品思想的表达形式，不保护作品思想本身，因此很难通过版权法保护集成电路布图设计中的技术创新和进步。此外，版权的保护期限过长，一般为作者创作完成后的有生之年外加死后50年；而集成电路技术更新换代的时间非常快，给予太长的保护期限既无必要，又容易造成技术的垄断，影响集成电路技术的借鉴与推广，限制先进的技术在全社会范围内的共享；因此，单纯采用版权法来保护集成电路显然也不是一个明智的选择。
（三）专门立法保护
集成电路的特殊性决定了其保护手段的特殊性。创设一种新的保护集成电路的专门法律制度，就成为一种必然的选择。通过专门立法保护集成电路的布图设计，有一个显而易见的优势就在于，这种专门保护制度能够结合专利法保护和版权法保护的优点，弥补专利法保护和版权法保护的不足。这种做法已得到越来越多的国家和国际组织的认可，并不断有这方面的立法实践，相应的国际条约体系也逐渐成型。
美国是目前世界上最先对集成电路布图设计予以立法保护的国家。美国1984年11月8日实施的《半导体芯片保护法》虽然在形式上是《美国法典》第17编版权法的最后一章，但它实际上是一个独立的体系，并不属于版权法体系。该法对布图设计专有权的保护同时借鉴了版权法和专利法的保护条件和方法。
在欧盟，1986年12月16日通过的《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》要求各成员国自行决定采取适当的立法形式加强对集成电路布图设计的法律保护。在欧盟内部，瑞典、英国、荷兰、德国、法国、丹麦、西班牙、奥地利、卢森堡、意大利、葡萄牙和比利时等国家都分别制定了专门的法规来保护集成电路。
在保护集成电路布图设计的国际条约中，影响力最为重要的当数1989年在华盛顿缔结的《关于集成电路的知识产权条约》（即《华盛顿条约》）和世界贸易组织各成员国签署的《与贸易有关的知识产权协议》（TRIPs协议）。《华盛顿条约》是集成电路领域的有关知识产权保护的第一个国际条约，该条约的缔结标志着布图设计国际保护体系的基本形成。由于该条约较多的反映了广大发展中国家的利益，不符合美国等发达国家提高保护水平的要求，因而受到美国等国的抵制，至今尚未生效。但《华盛顿条约》设计的权利体系为各国集成电路的知识产权保护奠定了基础，其中的大部分条款也为后来的TRIPs协议所吸收。与《华盛顿条约》相比，TRIPs协议作了三点重大修改：延长保护期，扩大保护范围，对善意侵权进行更加严格的限制。该协议全面反映了发达国家加强集成电路保护水平的要求，并极大地提高了集成电路知识产权的保护水平。
中国保护集成电路布图设计方面的立法起步较晚，但随着中国加入世界贸易组织，中国已经根据国际公认的标准制定、颁布了一系列法规、规章和司法解释，基本确立了保护集成电路布图设计权的法律体系。2001年4月2日，国务院颁布了《集成电路布图设计保护条例》，并于2001年10月1日起施行。这是中国历史上第一个关于集成电路布图设计保护的行政法规，这一条例借鉴国外先进的立法经验，初步构建了一个比较完善的集成电路布图设计的保护框架。此后，与之配套的规章也逐步健全。2001年10月1日，国家知识产权局颁布的《集成电路布图设计保护条例实施细则》正式施行。2001年11月28日，国家知识产权局发布的《集成电路布图设计行政执法办法》开始实施。为了正确指导与集成电路布图设计相关的知识产权案件的审判工作，最高人民法院于2001年10月30日专门下发了《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》，对管辖案件和管辖法院做出了周密的安排。总的看来，中国已经在较短的时间内初步建立了一套符合TRIPs协议要求的保护集成电路布图设计的法律体系，为集成电路布图设计的保护提供了比较完备的制度保障。
传统的知识产权法大体分为工业产权和版权，两者在权利主体、客体、保护要求、保护方式以及保护程序等方面都有很大差别。集成电路专门立法的出现，使得这两者有机结合起来，并在版权与工业产权之间开辟了一个过渡地带，进而形成了一个新领域，即工业版权。工业版权使工业产权与版权之间截然分开的界限逐渐模糊，并赋予传统版权以产业应用的实际意义，这对知识产权的整体保护无疑起到了促进作用［2］。
二、保护范围：延伸与继续延伸
目前，对于集成电路布图设计的保护客体有多种不同的认识和称谓，但究其本质并无太大差别。美国称其为掩膜作品(mask work)，日本称其为电路布图(circuit layout)，欧盟以及大部分欧洲国家，如英国、德国、法国等均将其称为拓朴图(topographies)。《华盛顿条约》将布图设计与拓朴图等而视之，TRIPs协议完全沿袭了《华盛顿条约》的定义，同样对此未做任何区分。在中国的立法中，同样可以看到《华盛顿条约》的影子，只是并没有刻意的提及拓朴图，而是单纯的称其为布图设计。 虽然在称谓和定义上，各国立法大同小异，但在具体的保护范围上却存在相当的差距。其核心问题就在于授予布图设计权利人的布图设计权是否应当延伸至集成电路产品本身，以及是否应当更进一步延伸到用由含有集成电路的产品组装出的其他产品。
通常根据保护的程度将保护分为三个层次：仅保护布图设计为第一层次；同时保护布图设计和含有受保护的布图设计的集成电路为第二层次；不仅保护布图设计和含有受保护的布图设计的集成电路，还保护含有前述集成电路的产品为第三层次。对比而言，集成电路布图设计的保护借鉴了著作权法的独创性原则，同时，具备独创性的布图设计还应当具备一定的创造性。因此，与著作权法相比，布图设计受保护的条件高于著作权法对普通作品的要求；而与专利法相比，布图设计受保护所要求的创造性显然大大低于专利法中的创造性要求。既然布图设计受保护的条件高于著作权法，而低于专利法，在效力上，布图设计专有权也应当高于著作权，而低于专利权。从这种意义来看，布图设计权的效力只应当延伸至集成电路产品本身，而不应当象专利权那样进一步延伸到二次产品上。换言之，保护的范围应当在第二层次的外缘止步。但是，理论上的分析在强大的利益驱动面前显得如此的脆弱；现实的立法无可阻挡的将保护范围延伸到了第三层次。
探究起来，《华盛顿条约》受到欧美等发达国家的抵制，至今未能生效的一个根结就在此处。该《条约》在确定保护范围的时候，强调无论是否结合到集成电路中，布图设计均应受到保护；同时，商业性的进口、销售或者以其他方式供销受保护的布图设计或者含受保护的布图设计的集成电路也需要获得权利人的授权。换言之，《华盛顿条约》将保护范围明确划定为第一层次和第二层次，这显然不符合美国、欧盟等先进国家和地区提高保护水平的要求。但是，发达国家并没有放弃努力，他们的强力推动在WTO多轮谈判后最终得以开花结果：T
RIPs协议将保护的水平延伸到了第三层次。[世界贸易组织《与贸易有关的知识产权协议》（TRIPs协议）第36条规定：“……成员应将未经权利持有人许可而从事的下列活动视为非法：为商业目的进口、销售或以其他方式发行受保护的布图设计；为商业目的进口、销售或以其他方式发行含有受保护布图设计的集成电路；或为商业目的进口、销售或以其他方式发行含有上述集成电路的物品（仅以其持续包含非法复制的布图设计为限）。”]
欧盟在此问题上的态度非常明确，即配合美国推动提高对集成电路的保护水平。早在1986年12月16日欧共体制定的《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》中，欧洲国家就达成共识，布图设计专有权的保护应该覆盖第三层次。需要指出的是，该《指令》中虽然在保护范围上仅限于拓扑图和含拓扑的集成电路产品，但鉴于该《指令》对“集成电路产品”的定义是一个广义的定义，本身也包括含有集成电路的其他产品，因此，欧盟的保护实际已经包含了全部第三层次的内容。
中国集成电路布图设计的立法起步于2001年前后。当时的一个重要时代背景是，中国正在努力谋求加入世界贸易组织（WTO）。为此，中国在知识产权的保护方面做出了较大的让步，并承诺迅速提高包括集成电路布图设计在内的各项知识产权的保护水平。中国在2001年制定《集成电路布图设计保护条例》的用意除了保护集成电路本身的需要之外，还有一个重要的意义就在于履行中国的对外承诺［3］；因此，在这种条件下，中国的现实选择就是使自身的立法向TRIPs协议的要求靠拢。该《条例》在设定法律责任的时候，间接地明确了保护范围延伸至第三层次：未经布图设计权利人许可，为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。
三、保护条件：不走寻常路
（一）实质条件：独创性与非常规性
根据版权法的理念，作品受保护的实质条件是具备独创性，此外并无形式上的要求。因此，大多数国家实行的都是自动保护原则，作品自创作完成之日起自动享有版权；而根据专利法的一般规则，技术方案受专利保护的实质条件应具备三性，即新颖性、创造性和实用性，形式条件是必须向专利主管部门申请并接受审查。集成电路的立法并不是将版权法和专利法进行简单相加，而是有所取舍地制定了布图设计获得保护的独特条件。
从各国集成电路立法规定的保护条件来看，布图设计受保护的条件既有版权法对作品的要求，也渗透了专利法对发明创造的要求。《华盛顿条约》对此问题的规定颇具代表性，该《条约》第3条第2款规定：“(A)第1款a项所指义务适用于具有独创性的布图设计。此种意义的独创性，是指它们是其创作者自己智力创造的成果，并且在创作的时候在布图设计者之间以及集成电路生产者之间不是显而易见的；(B)由显而易见的元件和集成电路的互连结合而构成的布图设计，只有当这种结合作为一个整体，符合(A)项的条件时才能受到保护。”
值得注意的是，《华盛顿条约》虽然使用了“独创性”一词，但其含义与版权法上的“独创性”不同。此处的“独创性”一词有两层特殊的含义：
（1）布图设计必须是其创作者独立创造完成的智力成果，而不能是简单的复制或者模仿他人的布图设计，在这一点上与版权法中独创性的含义相同；
（2）布图设计的局部或者布图设计的整体必须具有非常规性。受到电路参数、产品尺寸、半导体材料结构等技术因素和物理规律的限制，集成电路的布图设计必须遵循共同的技术原理和设计规则；因此，布图设计的表现形式是有限的。并非所有的布图设计都能受到保护，受到保护的布图设计应当是非常规的，或者非显而易见的，或者不为人所熟知的。换言之，布图设计应当具备一定的先进性，只不过这种先进性比专利法中对创造性的要求低得多。
由此可知，复制或模仿他人的布图设计而获得的布图设计由于缺乏独创性而不能受到保护。此外，具有独创性的常规布图设计同样也不受保护。只有那些创作者独立创作完成，并具有一定的先进性的非常规布图设计才能获得保护。
在《华盛顿条约》之后的各国立法以及相关的国际条约中，基本都承袭了《华盛顿条约》规定的保护条件。欧盟制定的《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》也有类似的规定。[欧盟《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》第2条规定：“……半导体产品拓扑图只要满足下列条件就必须给予保护：（1）它是作者自己的智力劳动成果；（2）它不是半导体工业领域的常规设计，若一个半导体产品拓扑图是由该领域的常规设计组合而成的，那么只有当这种组合作为整体满足上条件时才能受到保护。”]
中国的《集成电路布图设计保护条例》对此的规定与前述几个国际条约的规定如出一辙。该《条例》第4条规定：“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。布图设计专有权的客体是具有独创性的布图设计。”显然，中国在集成电路布图设计领域的立法自肇始之日就把保护范围扩展到了最全面的第三层次。中国知识产权立法受域外立法影响之深，由此可见一斑。好在中国已经成为集成电路产业生产、研发大国，从这一现实国情出发，一步到位的提高保护范围并不显得太过超前。
（二）形式条件：登记
普通作品在版权法项下，基本上是自动获得保护的，即作品创作完成以后自动而当然的获得保护，并不需要经过任何手续，因此也就不存在任何形式条件的要求。只有美国等少数国家实行登记保护主义，根据美国的规定，作品创作完成后需到国会版权局登记并在作品上标明版权标志方才受版权法的保护。当然，这一形式要件是比较容易满足的，因为根据世界知识产权组织《版权公约》的规定，只要作品上载明版权标志即视为满足了前述形式要件。相对而言，专利法的要求显然严格得多，各国专利法都一致规定，取得专利要经过审查登记程序。
在集成电路布图设计的保护上，除了前面论及需要满足一定的实质条件之外，各国立法基本上都没有对布图设计实行自动保护，而是采取了登记保护主义。开一代风气之先的美国《半导体芯片保护法》率先规定，集成电路的布图设计应当向国会版权局提出申请，由版权局对申请的形式和一部分实质内容进行审查（但不审查独创性），根据不同情况驳回或予以登记。准予登记的，发给登记证书并予以公布。登记证书可以作为布图设计符合法律规定的初步证据，如果未进行登记则不能提起侵权之诉。其他国家的立法受美国的影响，基本上都作出了类似的规定。
除了履行一定的登记手续之外，布图设计获得保护还需要具备的其他形式条件包括：（1）该布图设计必须投入商业实施。集成电路作为一种工业产品，只有通过商业实施才能实现其价值，这一要求是合情合理的。当然，如果仅将布图设计视为一种图形作品，无须投入商业实施也能够获得版权法的保护。（2）受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中［4］。这一要求是由布图设计自身的特性所决定的，布图设计并非单纯的版权作品，它必须和具体的集成电路结合起来，无法固化的布图设计本身就是不恰当的，更遑论保护。
《华盛顿条约》和TRIPs协议授权各缔约国自行选择要求实施或要求登记作为保护的形式条件。其中，《华盛顿条约》规定，布图设计专有权既可以由该布图设计第一次付诸商业利用产生，也可以由登记产生。TRIPs协议直接援引了《华盛顿条约》中的条款。中国在制定《集成电路布图设计保护条例》时充分考虑了我国的具体情况和实际需要，在参考世界上多数国家的做法后，并未要求取得布图设计专有权必须先实施，只要求必须登记。这样的规定完全符合《华盛顿条约》和TRIPs协议规定的保护水平；而且，还可以把世界范围内已经投入商业利用满2年，而在我国未登记的先进的布图设计排除在保护范围之外，这显然有利于我国集成电路产业的发展。这种立法的处理，切合了中国的实际，同时又满足了国际条约赋予的要求，是中国现行知识产权立法中的一招精妙之举。
四、反向工程：全世界人民联合起来
反向工程（Reverse-engineering）又称“还原工程”，在集成电路产业中特指利用技术方法，在彻底剖析了解每一个电路功能的基础上，重新设计与原产品不同但功能近似的芯片。各国法律都承认，在合理限度内实施的反向工程不构成侵权。这里所谓的合理性排除，包含两个方面的要求：（1）为教学、评价、研究布图设计中的概念、技术，或者布图设计中采用的电路、逻辑、组织结构而复制他人布图设计的行为不视为侵权。这种非商业性行为的例外，与版权法中的合理使用制度非常相似；
（2）将分析、评价结果应用于为销售而制作的具有独创性的布图设计之中的行为不视为侵权。按照版权法，这种行为属于侵权行为，显然在这一点上，集成电路的立法比版权法中的合理使用走得更远。
之所以作出这样的规定，主要是因为反向工程在集成电路技术发展中起着极其重要的作用。不夸张的说，全世界每一个集成电路的厂商都在做反向工程，以便了解其他厂商的产品发展状况，提高自己产品的技术水平。如果简单地套用版权法的规定，对这一行为严格禁止，势必遏制集成电路技术的进步。在中国，允许反向工程更具有现实的积极意义。中国的集成电路行业由于缺乏技术积累，通过反向工程能够迅速低成本的通过解剖先进芯片、绘出芯片布图，开发出兼容或者更为先进的产品。客观的分析，反向工程本身对于落后国家发展集成电路产业和推动集成电路布图设计技术进步是十分必要的。
作为集成电路工业最发达的国家，美国同样希望能够借助对集成电路布图设计进行反向工程，设计出功能相同而性能更优、尺寸更小、制造成本更低的半导体芯片。因而，美国《半导体芯片保护法》率先规定了反向工程的合法性，并将反向工程作为对集成电路布图设计专有权进行限制的重要措施之一。当然，也并非所有的反向工程都是合法的。美国的司法实践判断一项反向工程是否合法的依据，关键在于利用反向工程制作的新的集成电路芯片是否具有一定程度的独创性。通常从两个方面进行判断：新旧集成电路是否存在实质性的相似以及“辛苦和投资”程度［5］。
此外，必须指出的是，在技术层面上，直接复制与反向工程的技术效果是完全不一样的。通过直接复制制造出的集成电路在技术上没有创新，而反向工程制造出的集成电路则往往在技术上有所创新。实施反向工程并不是单纯地复制他人的布图设计，更不能简单的仿制他人的产品。合理的反向工程是鼓励通过解剖、分析,了解他人产品的功能、参数特性，以便设计出与之兼容的产品，或者在他人产品的基础上做进一步的改进，从而制造出在技术上更加先进的集成电路。布图设计的保护不宜直接照搬版权法中有关复制权、演绎权的规定，而应当在一定条件下给予实施反向工程的特许。事实上，允许在一定条件下实施反向工程的规定，更类似于专利法中关于改进发明的规定。作为工业产权保护对象之一的专利技术是对全社会公开的，专利法设置专门的公开渠道，就是为了便于他人在现有技术的基础上完成更新更优的发明创造［6］。这对于集成电路的保护不无借鉴！
《华盛顿条约》采取了与美国《半导体芯片保护法》同样的规定，《华盛顿条约》第6条将反向工程明确的界定为“不需要权利持有人许可的行为”。此项规定在TRIPs协议中再次得到了确认，中国也采取了同样的立场。不难预见，反向工程由于其特殊的技术价值，受到了发达国家和落后国家的一致推崇，各国对于反向工程的“偏爱”还将持续下去。
余论
客观地说，中国的集成电路立法立足自身的实际情况，从借鉴美国、欧盟等国家、地区的先进立法入手，在立法中充分协调了立法的先进性和适当性，这在中国现行各知识产权部门法中极为少见。该领域的一些立法理念和具体措施，例如保护条件和保护期限等，已经开始对计算机软件等其他领域的知识产权立法产生积极的影响。虽然在全世界范围内，集成电路领域的典型案例少之又少，但我们仍然有理由期待，恰当的立法和执法能够很好的为我国集成电路行业的持续发展提供帮助。
参考文献：
［1］郑胜利.集成电路布图设计保护法比较研究［J］.中外法学,2002(2) :185.
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［4］郭禾.我国集成电路知识产权的法律保护［J］.法学家,1995(4) :36.
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本文责任编辑：汪世虎
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